Relau penyepuhlindapan pantas menggunakan sistem kawalan mikrokomputer canggih dan kawalan suhu gelung tertutup PID, yang boleh mencapai ketepatan kawalan suhu tinggi dan keseragaman suhu, dan boleh dilengkapi dengan ruang vakum atau gas berbilang saluran mengikut keperluan proses pengguna.
Relau penyepuhlindapan pantas menggunakan lampu inframerah halogen sebagai sumber haba untuk memanaskan wafer atau bahan dengan cepat kepada 300 darjah -1200 darjah melalui kadar pemanasan yang lebih pantas, dengan itu menghapuskan beberapa kecacatan wafer atau bahan dan meningkatkan prestasi produk.
Relau penyepuhlindapan pantas (peralatan rawatan haba cip) digunakan secara meluas dalam pengeluaran wafer IC, wafer LED, MEMS, semikonduktor kompaun, peranti kuasa dan produk cip lain, serta pengaloian pantas sentuhan ohmik, penyepuhlindapan implantasi ion, pertumbuhan oksida, tekanan pelepasan dalam ketumpatan, ketumpatan dan proses lain. Rawatan haba pantas digunakan untuk memperbaiki struktur kristal dan sifat fotoelektrik, dengan indeks teknikal yang tinggi, proses yang kompleks dan kekhususan yang kuat.
Penggantian perkakasan relau penyepuhlindapan pantas
1, penggantian lampu pemanasan: lampu pemanasan melebihi hayat perkhidmatan atau tidak terang perlu diganti. Hayat perkhidmatan lampu haba ialah 3000 jam, dan hayat perkhidmatannya akan dikurangkan pada suhu tinggi.
2, penggantian minyak pam vakum: semasa penggunaan, sila perhatikan tolok minyak vakum sekali seperempat. Apabila tolok minyak menunjukkan paras minyak kurang daripada 1/3, sila tambah minyak pam vakum kepada lebih daripada separuh tolok minyak.
3, penggantian termokopel: apabila suhu tidak normal atau rosak, termokopel perlu diganti. Hayat perkhidmatan biasa termokopel ialah 3 bulan, dan hayat perkhidmatannya dipendekkan oleh faktor persekitaran.
4. Gantikan O-ring: Apabila permukaan O-ring jelas rosak atau tidak boleh dimeteraikan, O-ring perlu diganti. Hayat perkhidmatannya dipengaruhi oleh faktor daya dan suhu luaran.